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官方微信摘要 記者從中國科學(xué)院上海硅酸鹽研究所獲悉，該所科技人員立足自主研發(fā)，在掌握直徑2英寸、3英寸碳化硅單晶生長技術(shù)之后，2月4日，成功生長出直徑4英寸4H晶型碳化硅單晶，這標(biāo)志著我國碳化硅...
記者從中國科學(xué)院上海硅酸鹽研究所獲悉，該所科技人員立足自主研發(fā)，在掌握直徑2英寸、3英寸碳化硅單晶生長技術(shù)之后，2月4日，成功生長出直徑4英寸4H晶型碳化硅單晶，這標(biāo)志著我國碳化硅單晶生長技術(shù)達(dá)到了國際一流水平。
據(jù)介紹，碳化硅單晶是一種寬禁帶半導(dǎo)體材料，具有禁帶寬度大，飽和漂移速度高，臨界擊穿場強(qiáng)大，熱導(dǎo)率高等諸多特點，主要用于制作高亮度LED、二極管、MOSFET等器件。在綠色照明領(lǐng)域，用碳化硅襯底制作的LED性能遠(yuǎn)優(yōu)于藍(lán)寶石襯底。專家表示，碳化硅襯底需求將在短期內(nèi)迎來一個爆發(fā)增長期。
該項目得到國家重大專項和“863”計劃的支持。
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